Polvo disilicida de tungsteno

Polvo disilicida de tungsteno Descripción

El silicidio de tungsteno (WSi2) es un compuesto inorgánico, un silicida de tungsteno. Es un material cerámico eléctricamente conductor.

El polvo de silicida de tungsteno generalmente está disponible de inmediato en la mayoría de los volúmenes. Se pueden considerar formas de ultra alta pureza, alta pureza, submicrón y nanopolvo.

El silicida de tungsteno se utiliza en microelectrónica como material de contacto, con resistividad 60–80 μΩ cm; se forma a 1000°C. A menudo se utiliza como una derivación sobre líneas de polisilicio para aumentar su conductividad y aumentar la velocidad de la señal. Las capas de silicuro de tungsteno se pueden preparar mediante deposición química de vapor, por ejemplo, utilizando monosilano o diclorosilano con hexafluoruro de tungsteno como gases fuente. La película depositada no es estequiométrica y requiere recocido para convertirse a una forma estequiométrica más conductora. El silicidio de tungsteno es un reemplazo para las películas de tungsteno anteriores. El silicidio de tungsteno también se utiliza como capa de barrera entre el silicio y otros metales, por ejemplo, el tungsteno.

El silicidio de tungsteno también es de valor para su uso en sistemas microelectromecánicos, donde se aplica principalmente como películas delgadas para la fabricación de circuitos a microescala. Para tales fines, las películas de silicida de tungsteno pueden grabarse en plasma utilizando, por ejemplo, gas trifluoruro de nitrógeno.

WSi2 funciona bien en aplicaciones como recubrimientos resistentes a la oxidación. En particular, en similitud con el disilicida de molibdeno, MoSi2, la alta emisividad del disilicida de tungsteno hace que este material sea atractivo para el enfriamiento radiativo a alta temperatura, con implicaciones en los escudos térmicos.

Aplicaciones de polvo de disilicida de tungsteno e industrias relacionadas

● Material de contacto en microelectrónica

● Derivación sobre líneas de polisilicio para aumentar su conductividad y aumentar la velocidad de la señal

● Deposición química de vapor

● Reemplazo de películas de tungsteno anteriores

● Capa de barrera entre el silicio y otros metales (por ejemplo, tungsteno)

● Sistemas microelectromecánicos

● Recubrimientos resistentes a la oxidación

● Películas grabadas con plasma

● Investigación y Laboratorio

● Ciencia de los Materiales

● Deposición de película delgada

● Recubrimiento

Identificadores químicos

Propiedades disilicidas del tungsteno (teóricas)

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