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Óxido de indio y zinc
El óxido de indio y zinc (IZO) es un óxido conductor transparente (TCO) que se compone de óxido de indio, óxido de zinc y elementos dopantes. Es un material altamente transparente que tiene una excelente conductividad eléctrica y se usa comúnmente como sustituto del óxido de indio y estaño (ITO) en varias aplicaciones electrónicas.
Características
El óxido de indio y zinc (IZO) es un óxido conductor transparente (TCO) que se compone de óxido de indio, óxido de zinc y elementos dopantes. Es un material altamente transparente que tiene una excelente conductividad eléctrica y se usa comúnmente como sustituto del óxido de indio y estaño (ITO) en varias aplicaciones electrónicas.
Características:
● Alta conductividad eléctrica
● Alta transparencia
● Excelente estabilidad en diversas condiciones ambientales
● Baja resistencia
● Concentraciones de dopantes personalizables
● Compatible con diversas técnicas de deposición
Los grados:
● Pureza: 99,99 por ciento
● Composición: In2O3:ZnO (90:10, 95:5, 97:3)
● Concentraciones de dopantes personalizables
Formularios:
● Sputtering targets (Density: >6.0 g/cm³, tamaño de grano:<100 µm, Surface finish: Ra ≤ 0.8 µm, Dimensions: Customizable based on customer requirements)
● Polvo (tamaño de partícula:<5 µm, <10 µm, <20 µm, or customizable based on customer requirements, Specific surface area: 5-15 m²/g)
● Películas delgadas (Grosor: 50-300 nm, personalizable según los requisitos del cliente, Resistencia de la hoja:<15Ω/sq, Transmittance: >80 por ciento a 550 nm, técnicas de deposición compatibles: pulverización catódica, evaporación por haz de electrones, deposición por láser pulsado y otras técnicas de deposición de película delgada)
● Formas y tamaños personalizables
Método de producción:
El óxido de indio y zinc generalmente se produce a través de un proceso de pulverización catódica, en el que el óxido de indio, el óxido de zinc y los elementos dopantes se pulverizan conjuntamente sobre un sustrato. La película IZO resultante puede entonces recocerse para mejorar sus propiedades eléctricas y ópticas.
Aplicaciones e industrias relacionadas:
● Pantallas planas
● Pantallas táctiles
● Células solares
● Diodos orgánicos emisores de luz (OLED)
● Transistores de película delgada (TFT)
● Ventanas inteligentes
● Exhibiciones automotrices
● Pantallas aeroespaciales
● Dispositivos médicos
● Otras aplicaciones electrónicas
Información de salud y seguridad:
El óxido de indio y zinc generalmente se considera seguro para su manejo y uso en aplicaciones electrónicas. Sin embargo, es importante seguir las precauciones de seguridad adecuadas al manipular polvo IZO o objetivos de pulverización catódica. Estas precauciones incluyen usar ropa protectora adecuada, guantes y protección para los ojos, y evitar la ingestión o inhalación del material.
Nuestras ventajas:
● Concentraciones de dopantes personalizables
● Amplia gama de formas y tamaños
● Precios competitivos
● Productos de alta calidad con un rendimiento constante
● Plazos de entrega rápidos
● Servicio al cliente receptivo
Preguntas frecuentes:
P: ¿Se puede usar el óxido de indio y zinc como sustituto del óxido de indio y estaño?
R: Sí, IZO se usa comúnmente como sustituto de ITO en varias aplicaciones electrónicas debido a su alta conductividad eléctrica y transparencia.
P: ¿Cuál es el espesor típico de las películas delgadas IZO?
R: El grosor de las películas delgadas de IZO puede variar según la aplicación específica y los requisitos del cliente. Por lo general, está en el rango de 50-300 nm.
P: ¿Qué técnicas de deposición son compatibles con IZO?
R: IZO se puede depositar utilizando una variedad de técnicas, que incluyen pulverización catódica, evaporación por haz de electrones y deposición por láser pulsado. La técnica específica utilizada dependerá de los requisitos del cliente y de la aplicación específica.
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