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Óxido de indio y zinc

Óxido de indio y zinc

El óxido de indio y zinc (IZO) es un óxido conductor transparente (TCO) que se compone de óxido de indio, óxido de zinc y elementos dopantes. Es un material altamente transparente que tiene una excelente conductividad eléctrica y se usa comúnmente como sustituto del óxido de indio y estaño (ITO) en varias aplicaciones electrónicas.

Características

El óxido de indio y zinc (IZO) es un óxido conductor transparente (TCO) que se compone de óxido de indio, óxido de zinc y elementos dopantes. Es un material altamente transparente que tiene una excelente conductividad eléctrica y se usa comúnmente como sustituto del óxido de indio y estaño (ITO) en varias aplicaciones electrónicas.

Características:

● Alta conductividad eléctrica

● Alta transparencia

● Excelente estabilidad en diversas condiciones ambientales

● Baja resistencia

● Concentraciones de dopantes personalizables

● Compatible con diversas técnicas de deposición

Los grados:

● Pureza: 99,99 por ciento

● Composición: In2O3:ZnO (90:10, 95:5, 97:3)

● Concentraciones de dopantes personalizables

Formularios:

● Sputtering targets (Density: >6.0 g/cm³, tamaño de grano:<100 µm, Surface finish: Ra ≤ 0.8 µm, Dimensions: Customizable based on customer requirements)

● Polvo (tamaño de partícula:<5 µm, <10 µm, <20 µm, or customizable based on customer requirements, Specific surface area: 5-15 m²/g)

● Películas delgadas (Grosor: 50-300 nm, personalizable según los requisitos del cliente, Resistencia de la hoja:<15Ω/sq, Transmittance: >80 por ciento a 550 nm, técnicas de deposición compatibles: pulverización catódica, evaporación por haz de electrones, deposición por láser pulsado y otras técnicas de deposición de película delgada)

● Formas y tamaños personalizables

Método de producción:

El óxido de indio y zinc generalmente se produce a través de un proceso de pulverización catódica, en el que el óxido de indio, el óxido de zinc y los elementos dopantes se pulverizan conjuntamente sobre un sustrato. La película IZO resultante puede entonces recocerse para mejorar sus propiedades eléctricas y ópticas.

Aplicaciones e industrias relacionadas:

● Pantallas planas

● Pantallas táctiles

● Células solares

● Diodos orgánicos emisores de luz (OLED)

● Transistores de película delgada (TFT)

● Ventanas inteligentes

● Exhibiciones automotrices

● Pantallas aeroespaciales

● Dispositivos médicos

● Otras aplicaciones electrónicas

Información de salud y seguridad:

El óxido de indio y zinc generalmente se considera seguro para su manejo y uso en aplicaciones electrónicas. Sin embargo, es importante seguir las precauciones de seguridad adecuadas al manipular polvo IZO o objetivos de pulverización catódica. Estas precauciones incluyen usar ropa protectora adecuada, guantes y protección para los ojos, y evitar la ingestión o inhalación del material.

Nuestras ventajas:

● Concentraciones de dopantes personalizables

● Amplia gama de formas y tamaños

● Precios competitivos

● Productos de alta calidad con un rendimiento constante

● Plazos de entrega rápidos

● Servicio al cliente receptivo

Preguntas frecuentes:

P: ¿Se puede usar el óxido de indio y zinc como sustituto del óxido de indio y estaño?

R: Sí, IZO se usa comúnmente como sustituto de ITO en varias aplicaciones electrónicas debido a su alta conductividad eléctrica y transparencia.

P: ¿Cuál es el espesor típico de las películas delgadas IZO?

R: El grosor de las películas delgadas de IZO puede variar según la aplicación específica y los requisitos del cliente. Por lo general, está en el rango de 50-300 nm.

P: ¿Qué técnicas de deposición son compatibles con IZO?

R: IZO se puede depositar utilizando una variedad de técnicas, que incluyen pulverización catódica, evaporación por haz de electrones y deposición por láser pulsado. La técnica específica utilizada dependerá de los requisitos del cliente y de la aplicación específica.

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